生產原理

　　　高溫裂解法生產氣相二氧化硅是將四氯化硅高溫氣化，在氫氧焰中經高溫水解而得氣相二氧化硅，其反映式如下：
                          1000℃
            SiCl4 +2H2 +O2 ─→ SiO2 + 4HCl

    生產方法

    氣相二氧化硅的生產流程圖如下：
空氣→納氏泵→汽水分離器→除霧器→冷凍脫水塔→硅膠干燥器
                                                 ↓
H2→納氏泵→汽水分離器→除霧器→冷凍脫水器 氫氣除塵過濾器
                                    ↓           │
                              硅膠干燥器         │
                                 ↓　　　　　　　│
                       氫氣除塵過濾器→氫氣阻火器│
                                 ↓            ↓↓
         SiCl4→精流塔→冷凝器→氣化器────→合成水解爐
                                                 ↓
                                  空氣         分離器             
                                   ↓            ↓ 
                   成品←脫酸爐←脫酸爐←料斗←凝集器

    流程簡介：空氣經納氏泵加壓后，]經氣水分離器除霧冷凍脫水，硅膠干燥過濾除塵后分兩路，一路到合成水解爐，一路到氣化器作四氯化碳載體。

　　　氫氣經納氏泵加壓后，經氣水分離器冷凍脫水，硅膠干燥、過濾除塵后送水解爐。

　　　氫氣和空氣在合成水解爐上部噴嘴處燃燒，同時通入四氯化硅,燃燒形成1000℃左右的高溫，同時生成水蒸氣，水蒸氣將四氯化硅水解成二氧化硅和HCl氣體。高溫水解所得的二氧化硅顆粒極細，與反應后的氣體形成氣溶膠，不易捕集，故先把它送至聚集器中聚集成較大顆粒，然后再經旋風分離器收集，送脫酸爐，用含氨的空氣吹洗，使殘留的HCl量降至0.025%以下，得成品二氧化硅。